ALD growth of $HfO_2$ thin films using Hf(mp)$_4$ and water

• Jo, Won-Tae ;
• Jang, Hong-Seok ;
• Yang, Taek-Seung ;
• An, Gi-Seok ;
• Jeong, Taek-Mo ;
• Kim, Chang-Gyun ;
• Kim, Yun-Su ;
• Kim, Seong-Mun ;
• Hwang, Jin-Ha ;
• Jeong, Dong-Geun

• 조원태 (한국화학연구원 박막재료연구실, 성균관대학교 물리학과) ;
• 장홍석 (한국화학연구원 박막재료연구실) ;
• 양택승 (한국화학연구원 박막재료연구실) ;
• 안기석 (한국화학연구원 박막재료연구실) ;
• 정택모 (한국화학연구원 박막재료연구실) ;
• 김창균 (한국화학연구원 박막재료연구실) ;
• 김윤수 (한국화학연구원 박막재료연구실) ;
• 김성문 (홍익대학교 신소재공학과) ;
• 황진하 (홍익대학교 신소재공학과) ;
• 정동근 (홍익대학교 신소재공학과)

• Published : 2004.08.19

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