Ion Beam Sputtering Deposition을 이용한 $SiOx/SiO_2$ singlelayer 및 multilayers 에 생성된 Si nanocrystal의 비휘발성 메모리 효과 연구

  • 홍승휘 (경희대학교 전자정보학부 및 자연과학종합연구원) ;
  • 황형선 (경희대학교 전자정보학부 및 자연과학종합연구원) ;
  • 최석호 (경희대학교 전자정보학부 및 자연과학종합연구원) ;
  • 김경중 (한국표준과학연구원 표면분석그룹) ;
  • 문대원 (한국표준과학연구원 표면분석그룹)
  • Published : 2004.08.19