원자층 증착기구(ALD)를 이용한 Zirconia/Titania 다층 박막의 Gate Oxide용 특성 평가

  • 정대균 (국민대학교 신소재공학부) ;
  • 이진우 (국민대학교 신소재공학부) ;
  • 김지영 (국민대학교 신소재공학부)
  • Published : 2004.08.19