Preparation of NiSi thin films by MOCVD using the novel $Ni(dmamp)_2$ precursor

• Jeong, Yeong-Suk ;
• Kim, Min-Chan ;
• Yang, Taek-Seung ;
• Lee, Yeong-Guk ;
• An, Gi-Seok ;
• Jeong, Taek-Mo ;
• Kim, Chang-Gyun ;
• Kim, Yun-Su

• 정영숙 (한국화학연구원 박막재료연구팀) ;
• 김민찬 (한국화학연구원 박막재료연구팀) ;
• 양택승 (한국화학연구원 박막재료연구팀) ;
• 이영국 (한국화학연구원 박막재료연구팀) ;
• 안기석 (한국화학연구원 박막재료연구팀) ;
• 정택모 (한국화학연구원 박막재료연구팀) ;
• 김창균 (한국화학연구원 박막재료연구팀) ;
• 김윤수 (한국화학연구원 박막재료연구팀)

• Published : 2004.08.19

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