Preparation of $HfO_2$ thin films by MOCVD using the novel single precursor, $Hf(mp)_4$

  • 양택승 (한국화학연구원 박막재료연구실) ;
  • 이은주 (한국화학연구원 박막재료연구실) ;
  • 장홍석 (한국화학연구원 박막재료연구실) ;
  • 안기석 (한국화학연구원 박막재료연구실) ;
  • 정택모 (한국화학연구원 박막재료연구실) ;
  • 김창균 (한국화학연구원 박막재료연구실) ;
  • 김윤수 (한국화학연구원 박막재료연구실) ;
  • 김성문 (홍익대학교 신소재공학과) ;
  • 황진하 (홍익대학교 신소재공학과)
  • Published : 2004.08.19