($NH_{3}/N_{2}O/Ar$ Remote Plasma processing 의한 Si(001)의 plasma oxynitridation에 관한 연구)

  • 강신철 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 오창현 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 이내응 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 권태균 ((주) 주성엔지니어링)
  • Published : 2004.02.11