ALD Growth of NiO thin films using $Ni(DMAMP)_{2}$ And $H_{2}O$

• Jo, Won-Tae ;
• Kim, Min-Chan ;
• An, Gi-Seok ;
• Jeong, Taek-Mo ;
• Kim, Chang-Gyun ;
• Kim, Yun-Su ;
• Jeong, Dong-Geun

• 조원태 (한국화학연구원 박막재료연구실, 성균관대학교 물리학과) ;
• 김민찬 (한국화학연구원 박막재료연구실) ;
• 안기석 (한국화학연구원 박막재료연구실) ;
• 정택모 (한국화학연구원 박막재료연구실) ;
• 김창균 (한국화학연구원 박막재료연구실) ;
• 김윤수 (한국화학연구원 박막재료연구실) ;
• 정동근 (성균관대학교 물리학과)

• Published : 2004.02.11

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