The formation of OH and $NH_{2}$ terminated Si(001) surface using chlorinated Si(001)2xl surface

  • 백재윤 (한국화학연구원 박막재료연구실, 성균관대학교 나노물리연구실) ;
  • 이선숙 (한국화학연구원 박막재료연구실) ;
  • 오진호 (성균관대학교 나노물리연구실) ;
  • 안기석 (한국화학연구원 박막재료연구실) ;
  • 김윤수 (한국화학연구원 박막재료연구실) ;
  • 박종윤 (히로시마 대학 방사광가속기연구소)
  • 발행 : 2004.02.11