A Study on fabrication of micro structure not using MEMS processing

MEMS 공정을 이용하지 않는 미세구조물 제작에 관한 연구

  • Yoo Hong Jin (Division of Materials and Chemical Engineering, Soonchunhyang University) ;
  • Kim Dong-Hak (Division of Materials and Chemical Engineering, Soonchunhyang University) ;
  • Jang S. W. (Division of Information Technology Engineering, Soonchunhyang University) ;
  • Kim Tae Wan (Technology Innovation Center, Soonchunhyang University)
  • 유홍진 (순천향대학교 신소재화학공학부) ;
  • 김동학 (순천향대학교 신소재화학공학부) ;
  • 장석원 (순천향대학교 정보기술공학부) ;
  • 김태완 (순천향대학교 신가공기술혁신센터)
  • Published : 2004.06.01

Abstract

본 연구에서는 일반적인 미세구조물 제작공정인 lithography 공정을 이용하지 않고 SLS(Selective Laser sintering)형 RP(Rapid Prototyping system)을 이용하여 패턴의 깊이가 400$\mu$m인 미세구조물을 제작하였다. 제작 공정변수 중 재료의 상태가 new powder 이고 배치각이 $0^{\circ}$ 일 때 패턴의 깊이, 선폭과 표면조도가 가장 잘 구현되었다.

Keywords