Proceedings of the Korean Ceranic Society Conference (한국세라믹학회:학술대회논문집)
- 2004.10a
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- Pages.82.2-82.2
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- 2004
Atomic Layer Deposition of $TiO_2$ Thin Films Using $O_3$ for Capacitor of Next Generation Memory Devices
$O_3$ 공정을 이용한 단원자증착법에 의해 증착한 $TiO_2$ 박막의 구조적${\cdot}$ 전기적 특성 분석
Abstract
Keywords