Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)
- 2004.07a
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- Pages.93-96
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- 2004
Fabrication of coated conductor by continuous PVD methods
연속 공정 PVD 방법에 의한 coated conductor 제조
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Ko, Rock-Kil
(KERI) ;
- Chung, Jun-Ki (KERI) ;
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Kim, Ho-Sup
(KERI) ;
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Ha, Hong-Soo
(KERI) ;
- Shi, Dongqi (KERI) ;
- Park, Yu-Mi (KERI) ;
- Choe, Su-Jeong (KERI) ;
- Song, Kyu-Jeong (KERI) ;
- Yoo, Sang-Im (Seoul National University) ;
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Moon, Seung-Hyun
(Seoul National University) ;
-
Park, Chan
(KERI)
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고락길
(한국전기연구원) ;
- 정준기 (한국전기연구원) ;
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김호섭
(한국전기연구원) ;
-
하홍수
(한국전기연구원) ;
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- 박유미 (한국전기연구원) ;
- 최수정 (한국전기연구원) ;
- 송규정 (한국전기연구원) ;
- 유상임 (서울대학교) ;
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문승현
(서울대학교) ;
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박찬
(한국전기연구원)
- Published : 2004.07.05
Abstract
다층의 산화물 박막 구조를 갖는 coated conductor의 장선 제조를 위해서는 연속 증착 공정이 필요하다. 본 연구에서는 RABiTs와 IBAD 공정을 사용한 texture template을 사용하였으며, 금속 테잎을 연속적으로 이동하면서 증착할 수 있는 박막증착 장치(PLD, sputtering, evaporation)를 구축하여 PVD 방법으로 coated conductor를 제조하였다.