Chemical Aspects of Abrasive in Copper CMP Slurry

구리 CMP 공정에서 슬러리내 연마입자의 화학적 특성

  • 임건자 (한국과학기술연구원 나노재료연구센타) ;
  • 김주선 (한국과학기술연구원 나노재료연구센타) ;
  • 이종호 (한국과학기술연구원 나노재료연구센타) ;
  • 이해원 (한국과학기술연구원 나노재료연구센타) ;
  • 현상훈 (연세대학교 세라믹공학과)
  • Published : 2003.10.17