Characteristic of $ZrO_2$ Films Deposited by MO-ALD for Alternative Gate Dielectric Application

Alternative 게이트 옥사이드 적용을 위해 MO-ALD 로 증착된 $ZrO_2$의 특성연구

  • 박노헌 (국민대학교 신소재공학과) ;
  • 정대균 (국민대학교 신소재공학과) ;
  • 김지영 (국민대학교 신소재공학과)
  • Published : 2003.04.18