Fabrication of the Ni/SiC Schottky Barrier Diode-The Effect of Post $H_2$ Plasma Treatment

니켈전극을 이용한 탄화규소 쇼트키 다이오드 제작 및 수소 플라즈마 처리 효과에 관한 연구

  • 김대환 (서울대학교 재료공학부) ;
  • 나훈주 (서울대학교 재료공학부) ;
  • 정재경 (서울대학교 재료공학부) ;
  • 엄명윤 (서울대학교 재료공학부) ;
  • 송호근 (서울대학교 재료공학부) ;
  • 정상용 (서울대학교 재료공학부) ;
  • 김형준 (서울대학교 재료공학부)
  • Published : 2003.04.18