The Effect of Physical Characteristics of Cerium Oxide on Nanotopography of Chemical Mechanical Polishing for Shallow Trench Isolation

나노 세리아 입자의 특성이 CMP 나노포토그래피에 미치는 영향

  • 김상균 (한양대학교 세라믹공학과) ;
  • 윤필원 (한양대학교 세라믹공학과) ;
  • 손형민 (한양대학교 세라믹공학과) ;
  • 백운규 (한양대학교 세라믹공학과) ;
  • ;
  • 박재근 (한양대학교 나노 SOI 연구실)
  • Published : 2003.04.18