Initial oxynitridation and nitridation of silicon surfaces by NO and $NH_3$ decomposition

  • 염한웅 (연세대학교 물리및응용물리사업단/원자선원자막연구단) ;
  • 김정원 (연세대학교 물리및응용물리사업단/원자선원자막연구단) ;
  • 김유권 (연세대학교 물리및응용물리사업단/원자선원자막연구단)
  • Published : 2003.08.20