한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)
- 한국전기전자재료학회 2003년도 춘계학술대회 논문집 센서 박막재료 반도체 세라믹
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- Pages.33-36
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- 2003
W/Ti/TiN막의 연마 선택비 개선을 위한 산화제의 역할
Role of oxidant on polishing selectivity in the chemical mechanical planarization of W/Ti/TiN layers
- 이경진 (대불대학교 전기전자공학과) ;
- 서용진 (대불대학교 전기전자공학과) ;
- 박창준 (대불대학교 전기전자공학과) ;
- 김기욱 (대불대학교 전기전자공학과) ;
- 김상용 (동부아남 Fab.) ;
- 이우선 (조선대학교 전기공학과)
- Lee, Kyoung-Jin (Dep. Electrical and Electronic Eng. Daebul Uni.) ;
- Seo, Yong-Jin (Dep. Electrical and Electronic Eng. Daebul Uni.) ;
- Park, Chang-Jun (Dep. Electrical and Electronic Eng. Daebul Uni.) ;
- Kim, Gi-Uk (Dep. Electrical and Electronic Eng. Daebul Uni.) ;
- Kim, Sang-Yong (Fab. Dongbuanam) ;
- Lee, Woo-Sun (Dep. Electrical Eng. Chosun Uni.)
- 발행 : 2003.05.16
초록
Tungsten is widely used as a plug for the multi-level interconnection structures. However, due to the poor adhesive properties of tungsten (W) on