펄스 플라즈마 CVD에 의한 다이아몬드 특성을 갖는 탄소박막 증착

Deposition of Diamond-like carbon Thin Film by Pulsed Plasma Chemical Vapor Deposition

  • 임호병 (공주대학교 공과대학 화학공학부) ;
  • 김동선 (공주대학교 공과대학 화학공학부) ;
  • 이기선 (공주대학교 신소재 공학부)
  • Im, Ho-Byung (Depart. of Chemical Engineering, KongJu National University) ;
  • Kim, Dong-Sun (Depart. of Chemical Engineering, KongJu National University) ;
  • Lee, Ki-Sun (Depart. of Material Engineering KongJu National University)
  • 발행 : 2003.10.15

초록

본 연구에서는 열 필라멘트 화학증착 방법에 의한 나노 다이아몬드 박막 증착을 위해 핵 생성 밀도를 증가시키기 위해서 다이아몬드 특성을 갖는 탄소(Diamond-Like Carbon)박막들을 연속 및 펄스 플라즈마를 이용한 화학 증착법에 의하여 증착하여 그 특성을 SEM, XPS, Raman 및 Nano-Tester를 이용하여 분석하였으며 열 필라멘트 화학 증착법에 의하여 나노 다이아몬드 박막 형성에 대한 핵 밀도와 다아이몬드 특성을 갖는 탄소 박막의 특성의 연관성을 관찰하여 공구(WC-Co)의 표면 사전 처리 없이 나노 다이아몬드 박막 형성을 용이하게 하는 실험을 수행하였다.

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