한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)
- 한국전기전자재료학회 2003년도 하계학술대회 논문집 Vol.4 No.2
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- Pages.1030-1033
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- 2003
열선 CVD법에 의한 다결정 실리콘 박막증착 및 특성분석
Poly-Si Thin Films by Hot-wire Chemical Vapor Deposition Method
- 정연식 (한국에너지기술연구원 태양광연구센터) ;
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이정철
(한국에너지기술연구원 태양광연구센터) ;
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김석기
(한국에너지기술연구원 태양광연구센터) ;
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윤경훈
(한국에너지기술연구원 태양광연구센터) ;
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송진수
(한국에너지기술연구원 태양광연구센터) ;
- 박이준 (한국에너지기술연구원 태양광연구센터) ;
- 권성원 (한국과학기술원) ;
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임굉수
(한국과학기술원)
- Chung, Y.S. (KIER Photovoltaic Research Center) ;
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Lee, J.C.
(KIER Photovoltaic Research Center) ;
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Kim, S.K.
(KIER Photovoltaic Research Center) ;
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Youn, K.H.
(KIER Photovoltaic Research Center) ;
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Song, J.S.
(KIER Photovoltaic Research Center) ;
- Park, I.J. (KIER Photovoltaic Research Center) ;
- Kwon, S.W. (KAIST) ;
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Lim, K.S.
(KAIST)
- 발행 : 2003.07.10
초록
This paper presents the deposition characterization of polycrystalline silicon films by the HWCVD(Hot-wire Chemical Vapor Deposition) method at low substrate(