Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)
- 2003.07b
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- Pages.689-692
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- 2003
The Design and fabrication of K-Band Bandpass Filters Using the Photoimageable Thick Film Technology
후막 리소그라피 공정을 이용한 K-밴드용 대역통과 여파기 설계 및 제작
- Song, Hee-Seok (Korea Electronics Technology Institute) ;
-
Park, Kyu-Ho
(Korea Electronics Technology Institute)
;
- Lee, Young-Shin (Korea Electronics Technology Institute) ;
- Park, Sung-Dae (Korea Electronics Technology Institute)
- Published : 2003.07.10
Abstract
본 논문에서는 개방된 양 끝이 Loading 캐패시턴스로 연결된 새로운 행태의 1/2 파장 공진기를 이용해서 3단 대역통과 여파기를 설계, 제작하였다. 제안한 공진기의 전파지연효과(Slow-Wave Effect)때문에, 넓은 상향저지대역을 갖으며, 사이즈(Size)가 축소된 협대역 여파기 설계가 가능하다. 설계한 대역통과 여파기는 미세라인 구현이 가능한 후막 리소그라피 공정 기술을 이용하여 제작하였다.