Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)
- 2003.07a
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- Pages.361-365
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- 2003
Comparison of InGaef etching $BCl_3,\;BCl_3/Ar\;and\;BCl_3/Ne$ inductively coupled plasmas
$BCl_3,\;BCl_3/Ar,\;BCl_3/Ne$ 유도결합 플라즈마에 의한 InGaP 건식 식각 비교
- Baek, In-Kyoo (In-je Univ.) ;
- Lim, Wan-Tae (In-je Univ.) ;
- Lee, Je-Won (In-je Univ.) ;
- Jo, Guan-Sik (In-je Univ.) ;
- Jeon, Min-Hyun (In-je Univ.)
- 백인규 (인제대학교 나노공학과 / 나노 기술 응용연구소) ;
- 임완태 (인제대학교 나노공학과 / 나노 기술 응용연구소) ;
- 이제원 (인제대학교 나노공학과 / 나노 기술 응용연구소) ;
- 조관식 (인제대학교 나노공학과 / 나노 기술 응용연구소) ;
- 전민현 (인제대학교 나노공학과 / 나노 기술 응용연구소)
- Published : 2003.07.10
Abstract
Planar Inductively Coupled Plasma (PICP) etching of InGaP was performed in