한국광학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Optical Society of Korea Conference)
- 한국광학회 2003년도 하계학술발표회
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- Pages.290-291
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- 2003
RIE를 이용한 $Si_3$ $N_4$ 막이 증착된 나노 탐침의 식각 및 제작
Fabrication and Etching of Nano-probe Slide covered with $Si_3$ $N_4$ by RIE
초록
근접장 측정에서 가장 많이 쓰이는 근접장 광섬유 탐침은 몇가지 단점을 가지고 있다. 단점 중 하나는 광 전달율이 매우 낮다는 점이다. 전형적으로 근접장 광섬유 탐침의 aperture가 100nm일때 빛이 통과할 때의 광 전달율은
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