The Application of OTFT Fabrication to use Water-Soluble Lithography Process

수용성 광리소그라피를 이용한 OTFT 공정에의 응용

  • 김광현 (동아대학교 전기전자컴퓨터공학과) ;
  • 이명원 (동아대학교 전기전자컴퓨터공학과) ;
  • 허영헌 (동아대학교 전기전자컴퓨터공학과) ;
  • 김강대 (동아대학교 전기전자컴퓨터공학과) ;
  • 송정근 (동아대학교 전기전자컴퓨터공학과) ;
  • 황성범 (경남정보대학교) ;
  • 김용규 (거창기능대학교)
  • Published : 2003.07.01

Abstract

본 논문에서는 수용성 포토레지스트를 이용하여 기존의 패턴 형성 방법을 대신하여 유기 활성층을 리소그라피을 할 수 있도록 하였으며 스핀코팅 방법을 사용하여 대면적 리소그라피를 가능하게 하고 포토 마스크를 사용하여 매우 작은 선폭의 패턴을 형성할 수 있도록 하였다. 그리고 이러한 방법을 이용하여 트랜지스터를 제작하였고 기존의 방법으로 제작한 트랜지스터의 특성과 비교를 해보았다.

Keywords