The novel Fabrication method of the metal oxide nanotube on template using atomic layer deposition

템플레이트에서 원자층 증착기술을 이용한 금속산화물 나노튜브의 제작방법

  • 정대균 (국민대학교 공과대학 신소재공학부) ;
  • 박노헌 (국민대학교 공과대학 신소재공학부) ;
  • 성명모 (국민대학교 자연과학대학 화학과) ;
  • 이재갑 (국민대학교 공과대학 신소재공학부) ;
  • 신현정 (국민대학교 공과대학 신소재공학부) ;
  • 김지영 (국민대학교 공과대학 신소재공학부)
  • Published : 2003.11.01

Abstract

나노튜브는 반도체 재료로서 뿐만 아니라 다른 분야로까지 다양한 응용범위를 가진 물질로서 기존에는 주의 탄소를 사용하여 제작, 사용되어지고 있으나 게이트옥사이드(Gate Oxide) 물질인 지르코니아(ZrO$_2$), 타이타니아(TiO2$_2$) 등을 이용한 나노튜브는 많이 제작되어지고 있지 못하다. 따라서 보다 나은 성질을 갖는 물질로서 나노튜브를 제작할 시 반도체 재료에서의 고집적화를 통해 좋은 성질을 갖게 할 수 있으며 여러 분야로까지 확대가 가능한 재료를 사용하여 광학 및 환경분야 등 응용범위를 넓힐 수 있다. 본 실험은 나노튜브 제작에 있어서 템플레이트의 구멍 내부를 ALD 기술을 이용하여 균일한 두께를 갖는 금속 산화물층을 성장시킨 후 템플레이트 재료의 식각을 통해 금속산화물 나노튜브가 남아있게 하여 제작하는 방법이다.

Keywords