Evaluation of Oxidation System for Metal Oxide Thin Film

금속 산화물 박막 제작을 위한 산화 시스템의 평가

  • 임중관 (동신대학교 전기전자공학부) ;
  • 김종서 (동신대학교 전기전자공학부) ;
  • 박용필 (동신대학교 전기전자공학부)
  • Published : 2003.05.01

Abstract

Ozone is a strong and useful oxidizing gas for the fabrication of oxide thin films. In order to obtain high quality oxide thin films, higher ozone concentration is necessary. In this paper an ozone condensation system was evaluated from the viewpoint of an ozone supplier for oxide thin film growth. Crone was condensed by an adsorption method and the ozone concentration reached 8.5 mol% in 2.5 h after the beginning of the ozone condensation process, indicating high effectiveness of the condensation process. Ozone was continuously desorbed from the silica gel by the negative pressure. We found the decomposition in the ozone concentration negligible if the condensed ozone is transferred from the ozone condensation system to the film growth chamber within a few minutes.

금속 산화물 박막 제작에 유효한 산화가스로 오존가스를 채택했다. 고품질의 산화 박막을 얻기 위해 고농도 오존이 필요하여 오존 농축 시스템을 구축 및 평가하였다. 이 장치는 실리카겔로 오존의 선택 흡착을 이용해, 농축 공정 시작 후 유입 농도 8.5 mol%가 검출되는 2.5 h에서 농축이 완료되고, 진공 배기로 고농도 오존가스를 생성하였으며, 성막 장치까지 가스가 공급되는 몇 분 동안은 자연분해 효과를 무시할 수 있었다.

Keywords