Adaptor for Impedance measurement of plasma chamber

플라즈마 챔버 임피던스 측정용 Adaptor 개발

  • 이의용 (호서대학교 반도체 제조장비 국산화 연구센터) ;
  • 박성진 (호서대학교 반도체 제조장비 국산화 연구센터) ;
  • 설용태 (호서대학교 반도체 제조장비 국산화 연구센터)
  • Published : 2003.06.01

Abstract

본 연구에서는 RF 전력을 사용하는 플라즈마 식각/증착 장비에서의 플라즈마 챔버 내의 임피던스를 정확하게 측정하기 위한 Adaptor를 개발하였다. 개발된 Adaptor는 RF Matcher와 결합되며 RS-232 통신포트를 통하여 PC와 연결하여 챔버내의 임피던스 변화를 스미스 차트로 표시하여 실시간 관측이 가능하다. 이러한 Tool을 이용하여 수집된 데이터는 최적의 공정조건 구축에 활용이 가능하며 반도체 생산 라인에서의 생산성 향상에 기여할 수 있다.

Keywords