한국전기화학회:학술대회논문집

The Korean Electrochemical Society (한국전기화학회)
권호 표지

Effects of Oxidant-Dependent Oxidation and Dissolution Characteristics on Tungsten CMP Process

산화제에 따른 텅스텐 표면의 산화막 형성 및 용해 특성이 텅스텐 CMP 공정에 미치는 영향

  • 임건자 (한국과학기술연구원 나노재료연구센타) ;
  • 이종호 (한국과학기술연구원 나노재료연구센타) ;
  • 김주선 (한국과학기술연구원 나노재료연구센타) ;
  • 이해원 (한국과학기술연구원 나노재료연구센타) ;
  • 현상훈 (연세대학교 세라믹공학과)
  • Published : 2003.04.01
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