건식 식각용 대면적 고밀도 초고주파 유도결합형 플라즈마 소스(VHF-ICP Source) 개발

• 권기청 (주성엔지니어링 Etcher팀) ;
• 김정식 (주성엔지니어링 Etcher팀) ;
• 최성혁 (주성엔지니어링 Etcher팀) ;
• 전재홍 (주성엔지니어링 Etcher팀) ;
• 조우민 (주성엔지니어링 Etcher팀) ;
• 김동수 (주성엔지니어링 Etcher팀) ;
• 이동석 (한국과학기술원 물리학과) ;
• 이용관 (한국과학기술원 물리학과) ;
• 장홍영 (한국과학기술원 물리학과)

• Gwon, Gi-Cheong ;
• Kim, Jeong-Sik ;
• Choe, Seong-Hyeok ;
• Jeon, Jae-Hong ;
• Jo, U-Min ;
• Kim, Dong-Su ;
• Lee, Dong-Seok ;
• Lee, Yong-Gwan ;
• Jang, Hong-Yeong

• 발행 : 2002.02.19

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