C$_4F_8$을 Feed Gas로 사용한 Silicon Nitride CVD 챔버의 Remote Plasma Cleaning 시 배출 가스에 관한 연구

  • 오창현 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 김기준 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 김지황 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 배정운 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 염근영 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 이내응 (성균관대학교 재료공학과)
  • Published : 2002.02.19