Si$O_2$ 박막제조용 $TEOS/O_2$ 플라즈마 반응기에서의 미립자 오염

  • 홍성택 (강원대학교 공과대학 화학공학과) ;
  • 김동주 (강원대학교 공과대학 화학공학과) ;
  • 김교선 (강원대학교 공과대학 화학공학과)
  • Published : 2002.06.27