저온 Poly-Si TFT 제조시 ISD(Ion Shower Doping)공정변수 및 후 열처리에 따르는 TFT(Thin Film Transister) 소자 물성변화에 관한 연구

  • 정희석 (홍익대학교 신소재공학과) ;
  • 고무순 (홍익대학교 신소재공학과) ;
  • 노재상 (홍익대학교 신소재공학과)
  • Published : 2002.06.27