Nickel silicide 형성시 열처리 온도에 따른 열적 안정성에 관한 연구

  • 최일상 (하이닉스 반도체 메모리연구소) ;
  • 김경원 (하이닉스 반도체 메모리연구소) ;
  • 김종화 (하이닉스 반도체 메모리연구소) ;
  • 김종협 (하이닉스 반도체 메모리연구소) ;
  • 안은정 (하이닉스 반도체 메모리연구소) ;
  • 정칠성 (하이닉스 반도체 메모리연구소) ;
  • 김호정 (하이닉스 반도체 메모리연구소) ;
  • 이순영 (하이닉스 반도체 메모리연구소) ;
  • 김남식 (하이닉스 반도체 시스템IC연구소) ;
  • 허상범 (하이닉스 반도체 시스템IC연구소)
  • Published : 2002.06.27