W/Si 조성 변화에 따른 WSix film의 XRR/XRF 두께 측정 결과 비교

  • 이태권 (하이닉스 반도체(주) 메모리연구소 분석개발팀) ;
  • 어희주 (하이닉스 반도체(주) 메모리연구소 분석개발팀) ;
  • 김호정 (하이닉스 반도체(주) 메모리연구소 분석개발팀) ;
  • 이순영 (하이닉스 반도체(주) 메모리연구소 분석개발팀) ;
  • 이희성 (하이닉스 반도체(주) 이천생산본부)
  • Published : 2002.06.27