The Study of membrane structure for FBAR and the deposition of ZnO piezoelectric thin film

ZnO압전박막을 이용한 FBAR에 대한 연구

  • Lim, Seok-Jin (Department of Chemical Engineering, Kyungwon University) ;
  • Kim, Jong-Sung (Department of Chemical Engineering, Kyungwon University)
  • 임석진 (경원대학교 화학공학과) ;
  • 김종성 (경원대학교 화학공학과)
  • Published : 2002.11.07

Abstract

체적파 박막형 공진기 (FBAR: Film Bulk Acoustic wave Resonator)소자를 제조하여, 박막의 c축 우선 배향성을 조절하는 것이 FBAR 소자 특성을 확인하였다. 본 연구에서는 MEMS 공정에 의해 Membrane 구조의 FBAR(Film Bulk Acoustic wave Resonator) 소자를 구현하고자 하였다. 이를 위해 Si 기판을 Back-etching 하여 membrane 구조를 제작하였고 압전층으로 ZnO을 Sputtering 공정에 의해 증착 후, 공정 조건에 따른 우선 배향성을 관찰하였다.

Keywords