Proceedings of the KIEE Conference (대한전기학회:학술대회논문집)
- 2002.06a
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- Pages.158-160
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- 2002
The effect of the sputtering parameters on fabricating the precision thin film
초정밀 저항용 박막제조에 미치는 스퍼터 공정변수의 영향
Abstract
초정밀 박막저항을 제조하기 위하여, 3원계 5lwt%Ni-4lwt%Cr-8wt%Si 합금 타겟(Target)을 가지고 DC/RF 마그네트론 스퍼터를 이용하여 박막 저항을 제조하였고. 낮은 저항온도계수(TCR)를 가지는 박막을 만들기 위해 스퍼터링 제조공정의 변화에 따른 박막의 미세구조와 전기적인 특성을 조사하였다. 스퍼터링 제조공정 변수로써 스퍼터링 Power를 변화시켰고. 제조된 박막은 공기 중에서 400[
Keywords