한국재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference)

한국재료학회 (Materials Research Society of Korea)

권호 표지

ALD로 증착시킨 $HfO_2$/SiON 게이트 유전물질의 특성

Characterization of hafnium oxide/SiON stacked gate dielectrics by atomic layer deposition technique

강문수 (한양대학교 세라믹공학과) ;
김영배 (한양대학교 세라믹공학과) ;
이태호 (한양대학교 재료공학과) ;
안진호 (한양대학교 재료공학과) ;
최덕균 (한양대학교 세라믹공학과)

발행 : 2002.11.01

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