Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference (한국재료학회:학술대회논문집)

Materials Research Society of Korea (한국재료학회)
권호 표지

Characterization of Si-O-N-F films as a Phase Shift Mask Material for 157nm Optical Lithography

157nm 광리소그래피 위상변위 마스크용 Si-O-N-F 박막의 특성연구

  • 김성관 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 김형도 (삼성전자 포토마스크팀) ;
  • 김정민 (삼성전자 포토마스크팀) ;
  • 김상호 (한국 과학 기술 교육 대학) ;
  • 노광수 (한국과학기술원 재료공학과)
  • Published : 2002.05.01
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Abstract

Keywords