Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)
- 2002.07a
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- Pages.305-309
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- 2002
Fabrication and Properties of Metal/Ferroelectrics/Insulator/Semiconductor Structures with ONO buffer layer
ONO 버퍼층을 이용한 Metal/Ferroelectrics/Insulator/Semiconductor 구조의 제작 및 특성
- 이남열 (한국전자통신연구원 집적회로연구부 다기능소자팀) ;
- 윤성민 (한국전자통신연구원 집적회로연구부 다기능소자팀) ;
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유인규
(한국전자통신연구원 집적회로연구부 다기능소자팀) ;
- 류상욱 (한국전자통신연구원 집적회로연구부 다기능소자팀) ;
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조성목
(한국전자통신연구원 집적회로연구부 다기능소자팀) ;
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신웅철
(한국전자통신연구원 집적회로연구부 다기능소자팀) ;
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최규정
(한국전자통신연구원 집적회로연구부 다기능소자팀) ;
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유병곤
(한국전자통신연구원 집적회로연구부 다기능소자팀) ;
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구진근
(한국전자통신연구원 집적회로연구부 다기능소자팀)
- Published : 2002.07.01
Abstract
We have successfully fabricated a Metal-Ferroelectric-Insulator-Semiconductor (MFIS) structure using Bi