Plasma parameters variation in O$_2$/ He, Ar, Xe inductively coupled Plasma as a function of mixing ratio

• Bae, Geun-Hui ;
• Yu, Sin-Jae ;
• Eom, Hwan-Seop ;
• Jang, Hong-Yeong

• 배근희 (KAIST 물리학과) ;
• 유신재 (KAIST 물리학과) ;
• 엄환섭 (아주대학교 분자과학 기술학과) ;
• 장홍영 (KAIST 물리학과)

• 발행 : 2001.07.05

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