HRTEM 과 HAADF-STEM/EELS에 의한 poly-Si/ZrO2/Si 박막의 결정학적 특성 및 계면 반응 평가

Microstructural characterizations of the poly-Si/ZrO2/Si film using HRTEM and HAADF-STEM/EELS

  • 김중정 ((주)하이닉스반도체 메모리(연) 분석개발팀) ;
  • 양준모 ((주)하이닉스반도체 메모리(연) 분석개발팀) ;
  • 고중규 ((주)하이닉스반도체 메모리(연) 분석개발팀) ;
  • 박주철 ((주)하이닉스반도체 메모리(연) 분석개발팀) ;
  • 이순영 ((주)하이닉스반도체 메모리(연) 분석개발팀) ;
  • 김정선 (국방과학연구소 기술연구본부 5부 5팀) ;
  • 김근홍 (국방과학연구소 기술연구본부 5부 5팀)
  • 발행 : 2001.05.01