Proceedings of the KIEE Conference (대한전기학회:학술대회논문집)
- 2001.11a
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- Pages.277-280
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- 2001
State-of-the-art Technologies of EUV Lithography
EUV Lithography 개요 및 기술 개발 현황
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Kim, Yong-Ju
(Korea Electrotechnology Research Institute)
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- Park, Do-Yeong (Korea Electrotechnology Research Institute) ;
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Jin, Yun-Sik
(Korea Electrotechnology Research Institute)
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Gang, Do-Hyeon
(Korea Electrotechnology Research Institute)
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- Jeon, Yeong-Hwan (Korea Electrotechnology Research Institute)
- Published : 2001.11.03
Abstract
국내 반도체 산업계의 메모리 반도체 생산규모는 세계 최대이지만 반도체 생산 장비는 대부분 수입에 의존하고 있다. 특히 lithography는 반도체 공정의 핵심일 뿐 아니라 반도체 기술 분야에서 국가의 총체적인 기술력을 대표한다. 2001년 7월에 과학 기술부가 나노급 lithography 장비 개발을 21세기 프론티어 사업으로 추진하기 위한 준비 작업에 착수하였다. 본 논문에서는 차세대 lithography로 채택된 EUV (Extreme Ultra Violet) lithography 장비 기술의 개요와 국내외 기술 개발 현황에 대하여 설명한다.
Keywords