Comparison on Micro-Tec and TCAD simulators for device simulation

소자 시뮬레이션을 위한 Micro-Tec과 TCAD의 비교 분석

The metal-oxide-semiconductor field-effect transistor(MOSFET) has undergone many changes in the last decade in response to the constant demand for increased speed, decreased power, and increased packing density. This paper has compared Micro-Tec with ISE-TCAD. This paper investigates LDD MOSFET using two simulators. Bias condition is applied to the devices with gate lengths 180nm. We have presented MOSF ET's characteristics such as I-V characteristic, electric field. and compared with Micro-Tec and ISE-TCAD.

MOSFET는 전력감소, 도핑농도 증가, 캐리어 속도 증가를 위해서 많은 변화를 가져왔다. 이러한 변화를 받아들이기 위해서, 채널의 길이와 공급전압이 감소해야만했으며, 그것으로 인해 소자가 더욱 작아지게 되었다. 본 논문에서는 이러한 변화를 두 가지의 시뮬레이터를 사용하여 비교 분석하였다. 사용되어진 시뮬레이터는 Micro-Tec과 ISE-TCAD이며, 본 논문에서 LDD(lightly-doped drain) MOSFET에 관하여 시뮬레이션 하였다. 게이트 길이는 180nm를 기준으로 MOSFET의 특성과 전계를 비교 분석하였다.