Proceedings of the IEEK Conference (대한전자공학회:학술대회논문집)

The Institute of Electronics and Information Engineers (대한전자공학회)
권호 표지

Studies on Wet Etching of PHEMT with Citric acid based solutions

Citric acid 조성 비율에 따른 식각 특성에 관한 연구

  • 설우석 (동국대학교 밀리미터파 신기술 연구 센터) ;
  • 이복형 (동국대학교 밀리미터파 신기술 연구 센터) ;
  • 김성찬 (동국대학교 밀리미터파 신기술 연구 센터) ;
  • 이성대 (동국대학교 밀리미터파 신기술 연구 센터) ;
  • 김삼동 (동국대학교 밀리미터파 신기술 연구 센터) ;
  • 신동훈 (동국대학교 밀리미터파 신기술 연구 센터) ;
  • 이진구 (동국대학교 밀리미터파 신기술 연구 센터)
  • Published : 2001.06.01
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Abstract

In this paper, we have studied the characteristics of wet etching using citric acid based wet etchant. We have used the citric acid / hydrogen peroxide solution, citric acid / hydrogen peroxide / D.I. water solution. From our experimental result, a volumetric 1：3 ratio of citric acid and hydrogen peroxide and 1 ： 3 ： 1 ratio of citric acid, hydrogen peroxide, and D.I. water is shown to be a better wet etchant of PHEMT's system.

Keywords