대한전자공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the IEEK Conference)

대한전자공학회 (The Institute of Electronics and Information Engineers)
권호 표지

Citric acid 조성 비율에 따른 식각 특성에 관한 연구

Studies on Wet Etching of PHEMT with Citric acid based solutions

  • 설우석 (동국대학교 밀리미터파 신기술 연구 센터) ;
  • 이복형 (동국대학교 밀리미터파 신기술 연구 센터) ;
  • 김성찬 (동국대학교 밀리미터파 신기술 연구 센터) ;
  • 이성대 (동국대학교 밀리미터파 신기술 연구 센터) ;
  • 김삼동 (동국대학교 밀리미터파 신기술 연구 센터) ;
  • 신동훈 (동국대학교 밀리미터파 신기술 연구 센터) ;
  • 이진구 (동국대학교 밀리미터파 신기술 연구 센터)
  • 발행 : 2001.06.01
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초록

In this paper, we have studied the characteristics of wet etching using citric acid based wet etchant. We have used the citric acid / hydrogen peroxide solution, citric acid / hydrogen peroxide / D.I. water solution. From our experimental result, a volumetric 1：3 ratio of citric acid and hydrogen peroxide and 1 ： 3 ： 1 ratio of citric acid, hydrogen peroxide, and D.I. water is shown to be a better wet etchant of PHEMT's system.

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