$Ar/O_2$ 비율에 따른 반응성 RF 스퍼터링법에 의해 성장된 텅스텐 산화물 박막의 전기변색 특성 연구

The electrochromic properties of tungsten oxide thin films grown by reactive RF sputtering under differenct $Ar/O_2$ ratio

  • 나윤채 (광주과학기술원(K-JIST) 신소재공학과) ;
  • 안광순 (광주과학기술원(K-JIST) 신소재공학과) ;
  • 염준호 (광주과학기술원(K-JIST) 신소재공학과) ;
  • 김석순 (광주과학기술원(K-JIST) 신소재공학과) ;
  • 성영은 (광주과학기술원(K-JIST) 신소재공학과)
  • 발행 : 2001.11.01