$SF_6/Ar$플라즈마를 사용한 캐패시터 전극용 백금 박막의 식각 특성

Etching characteristics of platinum film using $SF_6/Ar$ plasma for high-k capacitor electrode applications

  • 주섭열 (한양대학교 신소재공학부) ;
  • 황재희 (한양대학교 신소재공학부) ;
  • 김상훈 (한양대학교 신소재공학부) ;
  • 안진호 (한양대학교 신소재공학부)
  • 발행 : 2001.11.01