Chemical vapor deposition and characterization of $HfO_2$ thin films for gate dielectrics

Gate 박막용 $HfO_2$ 박막의 증착과 분석

  • 박재후 (서울대학교 재료공학부 유전박막실험실) ;
  • 박병건 (서울대학교 재료공학부 유전박막실험실) ;
  • 조문주 (서울대학교 재료공학부 유전박막실험실) ;
  • 황철성 (서울대학교 재료공학부 유전박막실험실) ;
  • 한영기 (주성 엔지니어링) ;
  • 양두영 (주성 엔지니어링) ;
  • 오기영 (주성 엔지니어링) ;
  • 황철주 (주성 엔지니어링)
  • Published : 2001.05.01