Proceedings of the KIEE Conference (대한전기학회:학술대회논문집)
- 2001.07c
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- Pages.1643-1645
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- 2001
Study on the characteristics of TiN thin films prepared by plasma immersion ion implantation and deposition
플라즈마 잠김 이온주입 및 증착법으로 제작된 TiN 박막의 특성에 관한 연구
- Kim, Guang-Hoon (Applied Electrophysics Research Group, KERI) ;
- Nikiforov, S.A. (Applied Electrophysics Research Group, KERI) ;
- Lee, Hong-Sik (Applied Electrophysics Research Group, KERI) ;
- Rim, Gun-Hee (Applied Electrophysics Research Group, KERI)
- Published : 2001.07.18
Abstract
플라즈마 잠김 이온주입 장치를 개조하여 플라즈마 잠김 이온주입 및 증착 장치를 제작하였다. 박막을 증착하기 위하여 마그네트론 스퍼터를 장착하였다. Si 시료에 TiN막을 형성하기 위하여 $PI^3$
Keywords