화학기상법에 의한 대면적 SiC 증착층의 특성 제어

Property Control of the Chemical Vapor Deposited SiC Layer with large area

  • 김원주 (한국원자력연구소 기능성재료) ;
  • 이민용 (한국원자력연구소 기능성재료) ;
  • 김정일 (한국원자력연구소 기능성재료) ;
  • 홍계원 (한국원자력연구소 기능성재료) ;
  • 하조웅 (이노쎄라(주)) ;
  • 박지연 (한국원자력연구소 기능성재료)
  • 발행 : 2000.10.20