R.F. Magnetron Reactive Sputtering법으로 증착한 ITO 박막의 밀도가 전기적성질에 미치는 영향

Effect of Film Density on the Electrical Properties of ITO Thin Films Deposited by R.F. Magnetron Reactive Sputtering

  • 유동주 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 최시경 (한국과학기술원 재료공학과)
  • 발행 : 2000.10.20